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명세서
| 모습: | 흰색 바늘-모양의 결정체 |
| 분석(GC): | 99% 최소 |
| 건조 감량: | 최대 0.5% |
| 물: | 최대 0.1% |
응용
N-헥실카바졸(Hexylcarbazole)은 카바졸에서 질소 원자에 헥실 치환기를 갖는 유기 화합물로, 비치환 카바졸에 비해 향상된 용해도와 가공성을 부여합니다. 그것은 분야에서 널리 사용됩니다유기전자공학, 광전자재료, 고분자화학. 화합물은 다음과 같은 역할을 합니다.구멍-재료 운반(HTM)그리고OLED용 빌딩 블록(유기발광다이오드-), OPV(유기 태양광 발전), 그리고OFET(유기 전계-효과 트랜지스터). 공액 방향족 시스템은 탁월한 전하 이동성과 열 안정성을 제공하는 반면, 알킬 사슬은 필름-형성 특성과 다른 유기층과의 호환성을 향상시킵니다. N-Hexylcarbazole은 또한 다음에서 단량체 또는 공단량체로 사용됩니다.공액 중합체 및 공중합체폴리(N-헥실카바졸)(PHCz)과 같은 유연하고 효율적인 발광-또는 반도체 재료를 만드는 데 사용됩니다. 또한 응용 프로그램을 다음과 같이 찾습니다.광활성 성분광굴절 물질, 광-수집 시스템 및 염료-감응 장치에 사용됩니다.
이익
N-Hexylcarbazole의 주요 장점은 전자 성능과 용해도 간의 균형에 있습니다. 헥실 측쇄는 크게 향상됩니다.용액 가공성, 대면적 유기 전자 장치에 필수적인 스핀 코팅 또는 잉크젯 인쇄와 같은 저비용-필름 증착 기술을 가능하게 합니다.- 카바졸 코어는 다음을 제공합니다.높은 광화학적 안정성, 탁월한 정공-이동 효율 및 강력한 내열성, 이는 전자 기기의 장기간 작동에-중요합니다. 또한 N-Hexylcarbazole은 조정 가능한 광전자 특성을 제공하여 특정 방출 파장 또는 에너지 수준에 대한 구조적 변형을 허용합니다. 화합물은 다음에 기여합니다.장치 효율성 향상, 응집 감소, 필름 형태 개선, 차세대 유기 반도체 및 발광층에 선호되는-재료입니다.
결론
N-헥실카바졸(CAS 4041-21-8)은 전기적 성능, 열 안정성 및 용해도의 조합으로 가치가 높은 다목적 카바졸 기반 화합물입니다. 첨단 기술 개발에 핵심적인 역할을 담당하고 있습니다.유기전자재료OLED, OPV, 정공-수송층 등이 있습니다. 조정 가능한 구조와 유리한 처리 특성으로 인해 고성능과 내구성이 뛰어난 유기 광전자 장치를 만드는 데 필수적인 중간체가 됩니다.
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